微弧氧化过程中同时存在化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化等，因而微弧氧化膜的构成过程较为繁杂。微弧氧化机理紧要环抱氧化膜的电击穿和氧化膜微孔内气体放电两部份伸开，并提议了热效用、死板效用和电子雪崩等机理。方今电子雪崩机理最被认可，觉得微弧氧化过程中，电子在电场的效用下被加快行动，从电解液中高速射入基体表面的氧化膜，与其余的原子产生碰撞后电离出电子，这些电子以一样的方法电离出更多的电子，便构成了电子雪崩，构成电击穿景象。其紧要模子有Ikonopisov、连气儿雪崩和杂质核心放电等模子。
3、钛合金微弧氧化工艺过程的四个阶段第一阶段：普遍阳极氧化，拔取合适的工艺参数接通电源后，钛合金表面析出洪量氧气微泡，并生成一层绝缘钝化氧化膜；
第二阶段：微区弧光放电，在强电场效用下钝化氧化膜被击穿构成等离子体，钛合金表面浮现渺小的火花点；
第三阶段：微弧氧化，跟着电压抬高，火花点逐突变大，密度渐渐增添，钛合金表面显现平均的微弧放电点，并伴随很强的爆鸣声，微弧点密度渐渐削减，强度渐渐增添；
第四阶段：熄弧，钛合金表面微弧点及爆鸣声渐渐零落直至消散。
4、钛合金微弧氧化的影响要素微弧氧化做为一种表面改性技艺，受电解液编制、电压、频次、电流密度、占空比、温度和氧化工夫等要素的影响，能够经过遏制和调度这些影响要素，获得品质较好的陶瓷膜层。
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